Columbia Üniversitesi’nden bir araştırma ekibi, grafenin üretiminde önemli bir atılım yaparak, grafenin çeşitli teknolojilerde yaygın kullanımının önünü açtı. Oksijensiz kimyasal buhar biriktirme (OF-CVD) olarak adlandırılan yeni yöntemleri, büyük ölçekli grafen sentezinin önündeki ana engel olan oksijen kirliliğini ortadan kaldırıyor.
Tek bir karbon atomu katmanı olan grafen, ultra yüksek iletkenlik ve dayanıklılık gibi dikkat çekici özelliklere sahip ve bu da onu elektronik, enerji depolama, sensörler ve daha fazlasında ideal bir bileşen haline getiriyor. Bununla birlikte, geleneksel sentez yöntemleri sıklıkla safsızlıklar içeren grafen örnekleriyle sonuçlandı ve bu da potansiyelinin gerçekleştirilmesini engelledi.
Yeni OF-CVD yöntemi, büyüme süreci sırasında verilen oksijen miktarını dikkatli bir şekilde kontrol ediyor. Ekip, önceki yöntemlerdeki tutarsızlık sorununu aşarak tutarlı sonuçlar elde etti. Oksijenin hariç tutulması, grafenin büyüme sürecini önemli ölçüde hızlandırdı.
Sıcaklık ve basınç gibi parametrelere dayalı olarak büyüme oranlarını tahmin etmek için basit bir model geliştirildi. Böylece OF-CVD ile büyütülen numuneler, grafenin en saf formuyla hemen hemen aynı özellikleri gösterdi ve bu da yeni yöntemin olağanüstü başarısını gösteriyor.
Ekip şu anda grafenin silikon gibi fonksiyonel yüzeylere aktarılması üzerinde çalışıyor.
